株式会社 ニューメタルス エンド ケミカルス コーポレーション

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ナノテクノロジー材料

グラフェン

鱗片状グラフェン粉末(乾粉) 

米国のXG Sciences社が開発したグラフェン・ナノプレートレットは複数のグラフェンシートが積み重なった構造をしている粉末状ナノ素材です。Cグレードは層厚2ナノ以下、エリアサイズは2μ以下、Mグレードは層厚6〜8ナノ、エリアサイズは5, 15, 25μ等選択可能。より厚いHグレードもあります。周囲のエッジ部に官能基を導入したり、表面に界面処理剤を施すことによりマトリックスとの親和性を高めることができます。

ナノグラフェン水溶液

DGU(密度勾配超遠心分離法) により半導体SWNTと金属性SWNTの選択的分離及び量産を可能にした米国のNanoIntegris社は同法をグラフェンの分離にも応用、ナノグラフェン水溶液の安定供給を可能としました。製品としてはMONOグレード(1〜2層中心)とQUATTRO(3〜4層中心)の2種類がございます。

単層グラフェン膜

スペインのサン・セバスティアンに拠点を置くGraphenea社は、CVD法で世界最高レベルのグラフェン・シートを製造しています。注目製品は2cm角SiO2基板上の1.5cm角の単層グラフェン。サイズや基板の種類はご要望に応じます。また、2層、3層以上のグラフェンも合成可能です。ポストシリコン用途を初め、多岐に渡る用途が見込まれるグラフェン、今後のご研究の一助にご検討下さい。

酸化グラフェン

ISOF-CNR Bologna研究所の技術提供を受けて設立したイタリアの新ベンチャー、Graphos社。酸化グラフェン(GO)中心のグラフェン材料をご提供いたします。300μサイズまでの単層酸化グラフェンが製造可能で、単層の含有率は90%以上です。酸化グラフェンは水に溶け、加工が容易です。エポキシと水酸基を表面に持ち、エッヂ部にはカルボキシル基が存在します。これらの官能基は化学的に置換可能です。酸化グラフェンは電気的に絶縁ですが、還元により導電性を得ることができます。

機能付与酸化グラフェン

独自の黒鉛酸化方により、酸化グラフェンの効率的合成法(Rapid Hummers 法)を確立しました。様々な種類やサイズの黒鉛原料から酸化グラフェンを合成します。また、分散媒・酸化度等、ご要望に応じたGOも作製可能です。特に、海外からの輸入が困難な有機溶媒分散型のGOでは定評があります。製品群としては、スタンダード品のRap GOに加え、塩基処理したRap bGOや貴金属ナノ粒子を担持したMetal/GO,さらに酸素含有量を5%刻みで調節可能なRap rGOがあります。

  • 商品:Rap GO, Rap bGO, Metal/GO, Rap rGO
  • メーカー:NiSiNa Materials
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単結晶グラフェン膜

グラフェンマスター社は、2012年設立のオランダの研究開発型ベンチャーです。自家製特殊CVDシステムにより単結晶グラフェンの広面積成長を得意としております。単結晶ドメインは1mm以上も可能です。任意の基板に転写でき、単層から複層まで基板への全面転写技術を有します。加えて、前処理済みグラフェンを使用目的に応じて加工したり、標準品としてh-BN・TEMグリッド・クオーツ等の基板上の単結晶グラフェンの製造も行っております。

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